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反應(yīng)釜加熱控溫機(jī) 化工用冷熱一體機(jī)

簡(jiǎn)要描述:【無(wú)錫冠亞】反應(yīng)釜加熱控溫機(jī) 化工用冷熱一體機(jī),應(yīng)用于對(duì)玻璃反應(yīng)釜、金屬反應(yīng)釜、生物反應(yīng)器進(jìn)行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應(yīng)過(guò)程中有需熱、放熱過(guò)程控制。解決化學(xué)醫(yī)藥工業(yè)用準(zhǔn)確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應(yīng)器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進(jìn)程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。

  • 產(chǎn)品型號(hào):SUNDIZ4-3
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2024-10-17
  • 訪  問  量:94
詳情介紹
品牌冠亞制冷價(jià)格區(qū)間10萬(wàn)-20萬(wàn)
產(chǎn)地類別國(guó)產(chǎn)應(yīng)用領(lǐng)域化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,制藥,綜合

反應(yīng)釜加熱控溫機(jī) 化工用冷熱一體機(jī)


無(wú)錫冠亞冷熱一體機(jī)典型應(yīng)用于:

高壓反應(yīng)釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應(yīng)釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、

雙層反應(yīng)釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、微通道反應(yīng)器冷熱源恒溫控制;

小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測(cè)試、

組合化學(xué)冷源熱源恒溫控制、半導(dǎo)體設(shè)備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制







型號(hào)

SUNDI-125

SUNDI-125W

SUNDI-135

SUNDI-135W

SUNDI-155

SUNDI-155W

SUNDI-175

SUNDI-175W

SUNDI-1A10

SUNDI-1A10W

SUNDI-1A15

SUNDI-1A15W

介質(zhì)溫度范圍

-10℃~+200℃

控制系統(tǒng)

前饋PID ,無(wú)模型自建樹算法,PLC控制器

溫控模式選擇

物料溫度控制與設(shè)備出口溫度控制模式 可自由選擇

溫差控制

設(shè)備出口溫度與反應(yīng)物料溫度的溫差可控制、可設(shè)定

程序編輯

可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟

通信協(xié)議

MODBUS RTU 協(xié)議  RS 485接口

外接入溫度反饋

PT100或4~20mA或通信給定(默認(rèn)PT100)

溫度反饋

設(shè)備導(dǎo)熱介質(zhì) 溫度、出口溫度、反應(yīng)器物料溫度(外接溫度傳感器)三點(diǎn)溫度

導(dǎo)熱介質(zhì)溫控精度

±0.5℃

反應(yīng)物料溫控精度

±1℃

加熱功率 kW

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

制冷量 kW

200℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

20℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

-5℃

1.5

2.1

3.3

4.2

6

9

流量壓力 max

L/min bar

20

35

35

50

50

75

2

2

2

2

2

2.5

壓縮機(jī)

海立

艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機(jī)

膨脹閥

丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥

蒸發(fā)器

丹佛斯/高力板式換熱器

操作面板

7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄

安全防護(hù)

具有自我診斷功能;冷凍機(jī)過(guò)載保護(hù);高壓壓力開關(guān),過(guò)載繼電器、熱保護(hù)裝置等多種安全保障功能。

密閉循環(huán)系統(tǒng)

整個(gè)系統(tǒng)為全密閉系統(tǒng),高溫時(shí)不會(huì)有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統(tǒng)在運(yùn)行中不會(huì)因?yàn)楦邷厥箟毫ι仙?,低溫自?dòng)補(bǔ)充導(dǎo)熱介質(zhì)。

制冷劑

R-404A/R507C

接口尺寸

G1/2

G3/4

G3/4

G1

G1

G1

水冷型 W

溫度 20度

600L/H

1.5bar~4bar

G3/8

800L/H

1.5bar~4bar

G1/2

1000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1200L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1600L/H

1.5bar~4bar

G3/4

2000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

外型尺寸(水)cm

45*65*120

50*85*130

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

外形尺寸 (風(fēng))cm

45*65*120

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

70*100*175

隔爆尺寸(風(fēng)) cm

45*110*130

45*110*130

45*110*130

55*120*170

55*120*170

55*120*170

正壓防爆(水)cm

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

120*110*195

常規(guī)重量kg

115

165

185

235

280

300

電源 380V 50HZ

AC 220V 50HZ 3.6kW

5.6kW

7.5kW

10kW

13kW

20kW

選配風(fēng)冷尺寸cm

/

50*68*145

50*68*145

50*68*145

/

/


 

 

 

 

  在現(xiàn)代半導(dǎo)體行業(yè)中,冷熱循環(huán)試驗(yàn)機(jī)通過(guò)準(zhǔn)確控制溫度環(huán)境,為半導(dǎo)體制造過(guò)程中的多個(gè)關(guān)鍵環(huán)節(jié)提供必要的溫度保障,從而確保產(chǎn)品的質(zhì)量和性能。反應(yīng)釜加熱控溫機(jī) 化工用冷熱一體機(jī)

  一、冷熱循環(huán)試驗(yàn)機(jī)的基本工作原理

  冷熱循環(huán)試驗(yàn)機(jī)是一種集制冷和加熱功能于一體的設(shè)備,能夠提供穩(wěn)定的高溫和低溫環(huán)境,滿足半導(dǎo)體制造過(guò)程中復(fù)雜多變的溫度需求,為半導(dǎo)體器件的研發(fā)、生產(chǎn)和測(cè)試提供了可靠的保障。

  二、冷熱循環(huán)試驗(yàn)機(jī)在半導(dǎo)體制程中的應(yīng)用

  1. 薄膜生長(zhǎng)

  在半導(dǎo)體制程中,冷熱循環(huán)試驗(yàn)機(jī)能夠?yàn)楸∧どL(zhǎng)提供所需的準(zhǔn)確溫度環(huán)境,促進(jìn)材料的化學(xué)反應(yīng),從而生長(zhǎng)出高質(zhì)量的薄膜。通過(guò)準(zhǔn)確控制溫度,可以優(yōu)化薄膜的生長(zhǎng)條件,提高薄膜的均勻性和致密性,進(jìn)而提升半導(dǎo)體器件的整體性能。

  2. 熱處理

  半導(dǎo)體材料在制程過(guò)程中需要進(jìn)行多種熱處理,如退火、氧化等。這些過(guò)程對(duì)溫度的要求非常嚴(yán)格,稍有偏差就可能導(dǎo)致材料性能下降或器件失效。冷熱循環(huán)試驗(yàn)機(jī)能夠提供穩(wěn)定的溫度環(huán)境,確保熱處理過(guò)程的順利進(jìn)行。例如,在氧化過(guò)程中,通過(guò)準(zhǔn)確控制溫度,可以形成致密的二氧化硅層,有效保護(hù)晶圓表面,防止化學(xué)雜質(zhì)和漏電流的影響。

  3. 摻雜工藝

  摻雜是半導(dǎo)體制程中的環(huán)節(jié)之一,通過(guò)向材料中引入特定的雜質(zhì)來(lái)改變其電學(xué)性質(zhì)。冷熱循環(huán)試驗(yàn)機(jī)能夠?yàn)閾诫s工藝提供準(zhǔn)確的溫度控制,確保雜質(zhì)能夠均勻地分布在材料中,從而獲得理想的摻雜效果。準(zhǔn)確的溫度控制可以避免摻雜不均勻?qū)е碌钠骷阅懿▌?dòng),提高產(chǎn)品的穩(wěn)定性和可靠性。反應(yīng)釜加熱控溫機(jī) 化工用冷熱一體機(jī)

  4. 清洗與刻蝕

  在半導(dǎo)體制程中,清洗和刻蝕是去除表面污物和不需要材料的步驟。冷熱循環(huán)試驗(yàn)機(jī)能夠?yàn)檫@些工藝提供適當(dāng)?shù)臏囟拳h(huán)境,提高清洗和刻蝕的效果。適當(dāng)?shù)臏囟瓤梢源龠M(jìn)清洗劑和刻蝕劑的化學(xué)反應(yīng),加速污物和不需要材料的去除,從而保證半導(dǎo)體器件的清潔度和精度。


反應(yīng)釜加熱控溫機(jī) 化工用冷熱一體機(jī)



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